Зеленоградский нанотехнологический центр запускает первую в России фотолитографическую установку с новейшими технологиями

Зеленоградский нанотехнологический центр (АО «ЗНТЦ») заявил о запуске первой в России фотолитографической установки с разрешением 350 нанометров, разработанной для производства микросхем. Установка получила одобрение от государственной комиссии, в состав которой вошли представители крупных отраслевых организаций и ведущих российских производителей микроэлектроники.

«Данная новая совместная разработка имеет несколько значительных преимуществ: увеличена площадь рабочего поля до 22х22 мм, что значительно больше, чем у предыдущей модели (3,2х3,2 мм), а также максимальный диаметр подлежащих обработке пластин возрос до 200 мм с 150 мм. В отличие от мировой практики, в которой для создания подобных литографов используется ртутная лампа, наша российская установка впервые оснащена твердотельным лазером — это более эффективный и мощный источник, обеспечивающий долговечность и узкий спектр излучения», — рассказал генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалёв.

На данный момент ведется адаптация технологических процессов установки для конкретных производств, и уже начались переговоры о поставке первых образцов данного оборудования. Все испытания разрабатываемой техники и последующая адаптация производственных процессов будут проходить на специализированной платформе инженерно-исследовательского центра АО «ЗНТЦ».

Как отметили в АО «ЗНТЦ», тестирование электронного машиностроительного оборудования позволяет устранять проблемы, не затрагивая действующие производственные процессы и ресурсы, что значительно ускоряет процесс от разработки до серийного производства микроэлектронной продукции.

Кроме того, в настоящее время также ведутся работы над созданием установки для совмещения и проекционной экспозиции с разрешением 130 нм, завершение которой запланировано на 2026 год.